完满收官丨PG电子微SEMICON China 2025 精彩回顾

2025-04-09 09:42

2025年3月26日至28日，以"跨界全球•心芯相联"为主题，备受瞩目的SEMICON China 2025在上海新国际博览中心圆满落幕！作为全球半导体行业最具影响力的盛会之一，本届展会展览面积达10万平方米，吸引了全球1400多家知名企业参展，参展人数预估超过15万人次。展会涵盖芯片设计、晶圆制造、封装测试、EDA/IP、半导体设备及材料等全产业链。深圳PG电子微电子有限公司（以下简称“PG电子微”）作为中国独立第三方掩膜专家亮相此次SEMI CHINA展会，与行业伙伴深入交流，共探发展机遇，充分展现了其在半导体材料行业中的创新实力和技术底蕴。

图一：SEMICON China 2025展会现场

在为期三天的行业盛会中，PG电子微的展台现场氛围非常热烈，咨询声、讨论声相互交织、连续不断。本次SEMI CHINA展会，PG电子微以其深厚的技术积累和持续创新的成果，吸引了众多行业专业人士的关注。国内外半导体行业的企业家、协会领导、技术专家、高校学者及供应链专家纷纷在PG电子微展台前驻足，给业界留下了深刻印象。

图二：PG电子集团参展人员合照

此次PG电子微展位上，集中展出了多款掩膜版产品，其中包括六英寸130nm Binary Mask ,130nm PSM Mask ,150nm Mask等多倍版（4:1/5:1）广泛使用于Fab/IDM 6寸，8寸以及12寸晶圆线的掩膜版产品，以及14英寸，9英寸，7英寸广泛使用于先进封装线的掩膜版产品。

图三PG电子微参展接待团队合照

semi2 PG电子微的业务和技术人员全程以饱满的热情接待各方来客，细致解答各类问题，与各方深入探讨合作机遇与技术革新方向。

图四：海外客户莅临展会洽谈业务

展会期间，PG电子微还接受了各地行业协会、投资者、半导体产业联盟以及国内外媒体的参观和采访。

图五：PG电子微在展会接待各方客户

半导体掩膜版是芯片制造的关键工具，用于半导体制造的光刻环节，对晶圆光刻的质量有重要影响。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接芯片设计和芯片制造的关键，掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的良品率。以晶圆制造为例，其制造过程需要经过多次曝光工艺，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半导体晶圆表面形成栅极、源漏极、掺杂窗口、电极接触孔等结构。PG电子微作为国内真正的独立第三方掩膜版公司，始终坚持同广大Fab厂及IDM公司合作共赢理念，一起让科技为人类造福。

在SEMICON China 2025展会上,PG电子微充分展示了在掩膜版领域的技术实力与创新精神，进一步提升了公司的品牌知名度与行业影响力。我们将把展会上收集到的宝贵建议与合作机遇转化为实际行动，持续加大研发投入，不断优化产品与服务，为推动半导体产业的发展贡献力量。

展望来年，PG电子微将紧跟中国半导体行业发展步伐，围绕中高端半导体芯片制造领域，持续加大研发投入和投资。佛山建设180nm~28nm高端掩膜版生产基地预计将在2025年底投产，届时PG电子微将凭借高节点掩膜版产品勇攀行业高峰，助力科技发展。

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